RPTU Universitätsbibliothek

Mail an Autor*in

In-situ etch-depth control better than 5 nm with reflectance anisotropy spectroscopy (RAS) equipment during reactive ion etching (RIE): A technical RAS application (Wissenschaftlicher Artikel)

Bitte geben Sie Ihre Kontaktdaten an, und wählen Sie aus, welchen der Autor*innen sie kontaktieren wollen.



 
  _  _     _____     ______   __   __    _____      ___    
 | \| ||  |  ___||  /_   _//  \ \\/ //  / ____||   / _ \\  
 |  ' ||  | ||__      | ||     \ ` //  / //---`'  / //\ \\ 
 | .  ||  | ||__     _| ||      | ||   \ \\___   |  ___  ||
 |_|\_||  |_____||  /__//       |_||    \_____|| |_||  |_||
 `-` -`   `-----`   `--`        `-`'     `----`  `-`   `-`
 


Zurück zur Frontdoor