In-plane anomalies of the exchange bias field in Ni80Fe20/Fe50Mn50 bilayers on Cu(110)

  • We report on the exchange bias effect as a function of the in-plane direction of the applied field in twofold symmetric, epitaxial Ni 80 Fe 20 /Fe 50 Mn 50 bilayers grown on Cu~110! single-crystal substrates. An enhancement of the exchange bias field, H eb , up to a factor of 2 is observed if the external field is nearly, but not fully aligned perpendicular to the symmetry direction of the exchange bias field. From the measurement of the exchange bias field as a function of the in-plane angle of the applied field, the unidirectional, uniaxial and fourfold anisotropy contributions are determined with high precision. The symmetry direction of the unidirectional anisotropy switches with increasing NiFe thickness from [110] to [001].

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Verfasserangaben:S Riedling, Martin Bauer, C. Mathieu, Burkard Hillebrands, R. Jungblut, Kohlhepp J., A. Reinders
URN (Permalink):urn:nbn:de:hbz:386-kluedo-9185
Dokumentart:Preprint
Sprache der Veröffentlichung:Englisch
Jahr der Fertigstellung:1998
Jahr der Veröffentlichung:1998
Veröffentlichende Institution:Technische Universität Kaiserslautern
Datum der Publikation (Server):10.02.2000
Fachbereiche / Organisatorische Einheiten:Fachbereich Physik
DDC-Sachgruppen:5 Naturwissenschaften und Mathematik / 53 Physik / 530 Physik
Lizenz (Deutsch):Standard gemäß KLUEDO-Leitlinien vor dem 27.05.2011

$Rev: 13581 $